Laboratoire situé dans des salles blanches pour faciliter les processus de micro-nanofabrication exigeant un contrôle de la contamination par des particules dans l’air et leur maintien à des niveaux faibles pour pouvoir opérer de manière systématique et concluante.
De même, la manipulation des nanomatériaux exige également l’utilisation d’un espace fermé et contrôlé.
Situation
Description
Les équipements disponibles au laboratoire sont les suivants :
- Spin-spray coater. Pour les processus de déposition à contrôle de l’épaisseur de la couche déposée.
- Équipement de lithographie Mask Aligner EVG 620 Pour la définition des structures de taille micrométrique et nanométrique (jusqu’à 100 nm environ). Techniques : Photolithographie, UV Nil et micro contact printing.
- Moulin à billes horizontal Dispermat SL12-C VMA-Getzmann à système de broyage à l’oxyde de zirconium et récipient à double paroi inox de 1L. Il est possible d’obtenir des dispersions de nanoparticules de moins d’un micron.
- Plasma etcher Plasmalab 80plus (Oxford Instruments) : équipement d’attaque de surface par plasma réactif (rie) pour l’attaque d’oxydes métalliques, Ti, photorésines.
- Eau ultra pure accessible à plusieurs points. Le système de purification d’eau se compose de 2 modules Elix5 UV et Milli-Q-element.
- Hottes d’aspiration de gaz pour la manipulation de solvants.
- Microscope optique Olympus BS51 à lumière polarisée, à contraste d’interférence différentielle DIC (Nomarski) et à fluorescence.
- Système de séparation par taille basé sur un canal Asymetric Field Flow Fractionation AF4 couplé à un détecteur MALS (WYATT Technologies), permettant la caractérisation de la distribution de tailles des nanomatériaux dans une solution, de diamètres de particules et de concentration.
Destiné à
- Groupes de recherche et entreprises pour le développement de R&D+I basée sur l’application de microtechnologies / nanotechnologies et processus de fabrication situés dans un environnement propre pour obtenir des solutions innovantes.
